摘要:
一颗芯片在功耗、性能与面积（PPA）上的实现最佳平衡，归根结底取决于其目标应用。正因如此，若仅依赖通用标准单元库进行设计往往难以充分体现产品价值。而借助面向应用优化的单元库，晶圆厂得以拓展应用生态布局，IDM 能够针对不同产品线进行优化，采用相同工艺节点的 Fabless 公司则能够实现设计差异化，从而构建更具竞争力的产品。
Silvaco 的 CellForge 一款面向标准单元库的开发平台，它能够自动化完成版图生成、迁移与可重复修改，并无缝集成于成熟的 DRC、LVS、PEX寄生参数抽取、特征化与签核流程之中。通过拓展版图探索能力、将专家经验沉淀为可复用的自动化工作流程，CellForge 助力平面工艺与先进节点晶圆厂、IDM 及 Fabless 公司快速构建高度差异化的标准单元库，从而加速产品创新、缩短开发周期、并打造强力的竞争优势。
您将了解到:
晶圆厂、IDM 与 Fabless 公司如何将面向应用优化的标准单元转化为战略优势
如何根据特定设计目标和应用需求，对标准单元进行定制化
如何从紧盯量产交付日期，进阶为面向终端应用的标准单元探索与优化
主讲人
Nat Collins
Silvaco 首席现场应用工程师
Nat 现任 Silvaco 首席现场应用工程师，常驻美国加州圣克拉拉。在 2023 年 7 月加入 Silvaco 之前，他曾先后任职于 PsiQuantum、Micron Technology 和 Texas Instruments，从事工艺整合、测试芯片版图设计以及模拟版图等多个相关工作，相关经验涵盖逻辑电路、闪存及低温应用领域。Nat 拥有波士顿大学工程学学士与硕士学位。
建议参会人员:
数字设计工程师、标准单元库工程师、标准单元库特征化工程师及工程管理人员。