AI-Driven Manufacturing covers the process and device physics. AI-Driven Design covers the EDA tools, IP, verification and enablement.
Multiphysics from simulation to the fab floor
EDA tools, licensed IP, verification and enablement
Your market sets the physics problem
Find the technique for your problem
Process and device physics, from simulation to the fab floor
绘制模拟版图时同步检查设计规则。编辑器可在数分钟内打开超过 10 GB 的设计。
Expert 是 Silvaco 面向模拟、RF、混合信号和数字设计的层次化 IC 版图编辑器,支持任意角度绘制。编辑时同步检查设计规则,因此在仍可移动多边形时即可发现间距错误,而无需等到签核。它可在 Linux 和 Windows 上运行。
代价最高的版图错误往往在版图看似完成后才被发现。Expert在您仍在编辑时执行规则检查和连接性检查。
根据团队工作方式设置界面、快捷键和工具栏。将重复步骤编写为脚本,并在项目成员之间共享库。可在层次结构中原位编辑单元、将其展开,或处理扁平化数据,并根据需要打开任意数量的窗口。
即使在普通工作站上,数百万晶体管设计也能快速加载、平移和缩放。
DRC Assist 在每次编辑时检查您启用的规则,标出违规及其实测值,便于立即修复。绘制连线时,它会显示连线电阻。
点击任意图形,Node Probing 即会高亮所有与其电气连接的内容。短路定位器可追踪电源到地的短路。您可以比较两份版图,并在不离开编辑器的情况下浏览 SmartDRC/LVS 错误。
通过网表驱动版图,并使用 JavaScript 或 Silvaco 的 LISA 脚本语言构建参数化单元,无需手动绘制每种变体。
任意角度标尺可准确测量非曼哈顿几何结构,等电阻布线可处理 TFT 和平板显示互连。
Expert 支持 CMOS、BiCMOS、GaAs 及其他工艺。可从其定制 PDK 或 iPDK 入手,并在评估前检查晶圆代工厂的 PDK。
如果已使用 Virtuoso,您可基于现有信息设置工艺文件。
Expert 可读写 GDSII、LEF/DEF、DXF、OASIS、CIF、Applicon、OpenAccess 数据库、.eld 和 .sld。
加密可保护版图中的自有 IP 和获得第三方许可的 IP。
版图位于原理图与签核之间,因此上下游工具与编辑器同样重要。
原理图、网表或现有版图数据库。
Gateway:原理图驱动版图,支持原理图与版图之间的交叉探查
用于网表驱动版图的网表
现有 GDSII 数据库,或 OASIS、LEF/DEF 和 OpenAccess 数据
Silvaco 验证和提取工具,以及用于第三方签核的 Calibre。
SmartDRC/LVS:物理验证,可在 Expert 内浏览错误
Hipex:寄生参数提取,并反标注到原理图网表
Victory RCx:制造侧的三维场求解器 RC 提取工具,其求解器也以 Hipex-FS 形式在 Expert 内运行
在 Calibre 中执行签核 DRC 和 LVS 时,使用 Calibre Interactive、Calibre RealTime 和 Calibre RVE
模拟与混合信号 IP 供应商,其 IP 已在 7 至 180 nm 工艺投入生产。其最先进的 FinFET 设计流程将 Expert 与 Gateway 和 SmartView 配合使用。
“我们充分利用了 Silvaco 的定制功能,包括 Expert 灵活的脚本功能,并将继续在后续设计中使用 Silvaco 产品,推动下一代工艺技术的发展。”Randy Caplan,Silicon Creations 联合创始人
数据手册:编辑与任意角度功能、容量、原理图驱动版图、Pcell,以及与 Calibre、Virtuoso 数据和 Hipex 的协作方式。
DRC Assist、Node Probing、版图比较,与 Gateway、SmartDRC、Hipex 和 Victory RCx 的集成,平板显示功能及截面查看器。
从 Expert 以批处理方式或通过 Calibre Interactive 启动 Calibre DRC 和 LVS,并在版图中高亮显示错误。
准备您自己的标准单元版图,以便从 Gateway 进行网表驱动版图设计,使网络信息从原理图传递至版图。
Expert OA 模式中的 OpenAccess Pcell:随附的 PyCell 求值器,以及如何改用 PDK 所要求的求值器。
带上决定模拟版图评估成败的问题。您的 GDSII 或 OpenAccess 数据能否顺利打开?Virtuoso 工艺设置能否迁移?哪款 PDK 覆盖您的晶圆代工厂和节点?请先向我们的工程师咨询。
IC 版图编辑器用于绘制芯片的物理几何结构,即各掩模层上最终形成晶体管、连线和接触孔的图形。在模拟版图中,设计规则和寄生参数也从这一阶段开始产生影响。Expert 是 Silvaco 的层次化、任意角度版图编辑器,既用于数字模块,也用于模拟、混合信号和 RF 电路。
可以,只要您已有相关设置。Expert 可根据现有 Virtuoso 信息构建工艺文件,并直接导入图层、颜色、填充图案、快捷键、宏和工具栏。无需手动重建图层映射,版图设计工程师可在熟悉的环境中开始工作。
Expert 可读写 GDSII、OASIS、OpenAccess、LEF/DEF、CIF、DXF 和 Applicon,以及 .eld 和 .sld 格式,并支持 OpenAccess iPDK。版图还可从网表开始,或从保持链接以支持交叉探查的 Gateway 原理图开始。
交互式 DRC 在绘制版图时检查设计规则,而不是事后单独运行。在 Expert 中,DRC Assist 从工艺文件读取规则,并报告每项违规及相应数值。它还可识别层次结构中下层单元的图形,因此您可以在继续之前修正错误。
可以。您可在 Expert 内以批处理方式或通过 Calibre Interactive 启动 Calibre DRC 和 LVS,再通过 Calibre RVE 在版图中高亮每项错误。Calibre RealTime 提供按需签核级 DRC,但 Calibre 接口仅支持 Linux。
可以。Pcell 可使用 JavaScript 或 Silvaco 自有的 LISA 脚本语言编写,也可驱动 Expert 的网表驱动和原理图驱动版图。在 OpenAccess 模式下,Expert 还可运行 OpenAccess Pcell,使用随附的基于 Python 的 PyCell 求值器,或 PDK 指定的其他求值器。
为 Expert 原理图驱动版图绘制原理图的工具
从原理图到签核的完整流程,以及其中全部九款产品。