Learn How Micron Utilizes Silvaco’s Fab Technology Co-Optimization for Development and Manufacturing of Memory Technologies
DRAMコンポーネントや3D NANDなど、Micron Technology社のメモリ製品は、プロセス技術の進歩を推進しています。複雑な構造の製造に取り組み、プロセスのばらつきが電気的性能に及ぼす影響を評価するには、革新的なモデリング手法が必要になります。
本ウェビナーでは、Micron Technology社が先端メモリ技術の開発と製造にシルバコのFab Technology Co-Optimization（FTCO™）プラットフォームをどのように活用しているかを紹介します。半導体プロセスを最適化するための仮想プロセスモデル、感度解析、応力モデリングの適用事例を紹介します。シルバコとMicron Technology社の共同作業によって、製造プロセスのデジタル・ツインをどのように構築し、メモリ技術の微細化に向けた革新的ソリューションを実現しているかを紹介します。
プレゼンタ―
Sumeet Pandey氏、Micron Technology社の技術スタッフ特別会員
対象
TCADエンジニア、ファブエンジニア、プロセスエンジニア、プロダクトマネージャ、エンジニアリング管理者
[日本時間]
開催日時:
2024年8月29日
11:00am JST (10:00 Beijing)
6:00pm JST (11:00 Paris)
2024年8月30日
2:00am JST (10:00 Santa Clara)
(各回、同じ内容になります。)
配信: オンライン
言語: 英語