• 网络研讨会

美光科技：如何利用Silvaco的FTCOTM平台进行存储技术的开发和制造

诸如DRAM和3D NAND等来自美光科技的卓越的存储产品不断推动着半导体工艺技术的发展。为了更加高效地处理日益复杂的物理结构，并评估工艺偏差对电学性能的影响，亟需创新的建模方法。

在本次网络研讨会上，我们将为您介绍美光科技如何利用Silvaco的FTCOTM（Fab Technology Co-Optimization）平台来优化半导体工艺，以开发和制造先进的存储器。我们将通过案例演示虚拟工艺模型、敏感性分析和应力建模等功能。Silvaco和美光的合作充分展示了如何构建制造工艺的数字孪生，为存储技术的发展提供了变革性的解决方案。

讲师

Sumeet Pandey，美光科技，杰出研究员

建议参会人员：

TCAD工程师、晶圆厂工程师、工艺工程师、产品经理和工程管理人员。

时间:
圣克拉拉时间：
2024年8月29日 10:00 – 10:30
巴黎时间：
2024年8月29日 11:00 – 11:30
北京时间：
2024年8月29日 10:00 – 10:30

地点: 线上

语言: 英文

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