• 功率器件

Silvaco Victory TCAD解决方案

助力碳化硅、氮化镓和硅基功率器件快速开发

基于碳化硅 (SiC)、氮化镓 (GaN) 和硅基材料的宽禁带半导体有力推动了功率器件的发展,以满足汽车、5G、工业、消费电子、高性能计算、航空航天和国防市场的需求。
Silvaco以TCAD为核心的功率器件开发和建模解决方案可以帮助客户大幅缩短开发时间和成本,加快产品上市周期。

功率器件

硅基和SiC

SiC Si Power Device Markets

PIN二极管、肖特基势垒二极管(SBD)、DMOSFET、结栅场效应管(JFET)、绝缘栅双极晶体管(IGBT)、双极结型晶体管(BJT)、晶闸管、超结器件、边缘端接结构

射频功率器件

GaN

GaN Power Device Markets

肖特基/PIN二极管、横向HEMT、垂直HEMT、金属绝缘体半导体(MIS)HEMT、p-GaN栅极HEMT、多通道HEMT、超结器件

点击获取关于SiC 和硅基功率器件的更多信息: 《Victory TCAD 开发概述–SiC 和硅基器件》

点击获取关于GaN功率器件的更多信息:《Victory TCAD 开发概述–GaN器件》

功率器件开发概述

Silvaco以TCAD为核心的开发和建模解决方案,能帮助工程师在功率器件开发过程中对器件工作条件、器件工艺技术或半导体技术进行探索和虚拟更改,定性和定量地理解器件。然后,再通过迭代仿真,工程师就可以优化器件的性能和工作范围,从而大大减少实现批量生产所需的时间和成本。

TCAD 开发流程

TCAD Power Device Development Flow

工艺仿真

使用Victory Process将工艺流程虚拟化

通过虚拟制造优化您的下一代功率器件 fabrication

完整的 2D / 3D TCAD 工艺仿真和仿真解决方案

  • 2D模式下快速的创建、调试和校准
  • 轻松过渡到逼真的 3D结构以进行全 3D 技术设计
  • 无缝集成到器件仿真中

SiC、GaN和硅基器件的工艺仿真

  • 刻蚀与沉积
  • 离子注入
  • 杂质激活
  • 氧化
  • 应力
  • 开放的模型材料库
Victory Process Power Device Development
Victory Device Power Device Development

器件仿真

Victory Device满足任何功率器件仿真的广度和深度要求

完整的 2D/3D TCAD 器件仿真解决方案

  • 直流、交流和瞬态器件仿真
  • 自热仿真
  • 可靠性和辐照仿真
  • 电路、器件混合模式仿真

用户自定义的物理模型和材料参数

  • 根据实验数据校准仿真器件
  • 通过调整物理参数可以仿真新型宽禁带材料

先进数值求解器和方法

  • 多线程仿真和高精度求解可用于非常复杂的仿真

SPICE仿真和建模

Utmost IV 可以快速而准确地生成 SPICE模型

SmartSpice 提供高精度仿真结果

Utmost IV提取并验证SPICE模型参数

  • TCAD流程整合
  • 快速生成模型
  • 广泛而精准的紧凑型模型
  • Spice参数优化

SmartSpice提供快速和准确的仿真结果

  • 多种温度、晶圆、芯片、器件
  • 直流、电容、S参数和数据提取(Vt、Idsat 等)的混合
  • 器件模型参数和网表参数的任意组合
Utmost IV SmartSpice Power Device Development

相关资源