Yearly Archives: 2019
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2019
Know how your circuit behaves across process variation before silicon tells you, with Monte Carlo-accurate results up to 30X faster.
7 years ago
5nm Success – Silicon Creations CEO Video Interview at DAC 2019
In the following video, I interview Silvaco customer Randy Caplan of Silicon Creations from the show floor at DAC 2019, in Las Vegas, about the latest trends and challenges for
7 years ago
ARおよびホログラフィ・アプリケーションを実現する、LCoSピクセルのシミュレーションと解析
本ウェビナーでは、シミュレーション・ツールであるClever LCDを使用して位相に特化したLCoS-SLMを解析する方法を示します。特に、ピクセル駆動およびピクセル・サイズの縮小で起こる問題について説明します。
7 years ago
SmartSpice解析エンジンの設計フローへの適用
本ウェビナーでは、さまざまなフローの構成要素を詳しく理解できるよう説明し、運用を可能にする、あるいは妨げる要因とパフォーマンスを最適化する方法について説明します。
7 years ago
Launching Samsung Foundry IP as Silvaco IP – What you Need to Know
On Monday, May 13, Silvaco announced that the semiconductor design IP of Samsung Foundry is now marketed, licensed and supported through Silvaco. The addition of Samsung production-proven design IP complements
7 years ago
CEA-Letiとシルバコ、超低消費電力スタティック・メモリの歩留まり予測プロジェクトで協力
ラスベガス – 2019年6月3日 - CEA-Techの研究機関であるLetiとチップおよび電子システムの設計用ソフトウェア、IP、サービスを半導体企業に提供する世界的リーディング・プロバイダであるSilvaco Inc. (以下シルバコ)は、本日、ラスベガスで開催中の第56回Design Automation Conference (DAC) で、コンピューティング・アプリケーションに使用される超低電圧 (ULV)、超低リーク電流 (ULL)、スタティック・ランダム・アクセス・メモリ (SRAM) の歩留まりを予測およびモデリングするプロジェクトを発表しました。
7 years ago
シルバコとSi2、ユニークでフリーな15nmオープン・ソース・デジタル・セル・ライブラリをリリース
テキサス州オースティン & カリフォルニア州メンローパーク - 2019年5月30日 -EDAソフトウェアおよび設計IPのリーディング・ サプライヤであるSilvaco, Inc. (以下、シルバコ)は、本日、EDAソフトウェア研究開発のジョイント・ベンチャであるSilicon Integration Initiative, Inc. (以下Si2) に15nmオープン・ソース・スタンダード・セル・ライブラリを提供することを発表しました。
7 years ago
シルバコTCAD: 入門と基礎 – チュートリアル – パートIII
この3部構成のウェビナーでは、シルバコTCADのソフトウェア・スイートを紹介し、入門用トレーニングおよびチュートリアルを提供します。このシリーズにより、複雑なTCADに対して適切なスタート地点から取り組み、確信を持ってTCADシミュレーションを成功させる方法を短期間で習得することが可能です。
7 years ago
Inventing the Future of MicroLED: Silvaco TCAD
Silvaco did Executive Video Interviews at our booth in the middle of the show floor at Display Week 2019 in San Jose. We interviewed industry experts on what they expected
7 years ago
酸化物半導体TFTのデバイスシミュレーション: デバイスモデリングと自己発熱効果
本ウェビナーでは、シルバコのシミュレータを用いた酸化物半導体TFTのデバイスシミュレーションを紹介します。酸化物半導体特有のキャリア電子輸送と電子状態は、移動度モデルとDOS (density of subgap states) 分布に反映されます。これらのモデルパラメータ値を決定する手法を提案するとともに、その結果を適用したデバイスシミュレーションが酸化物半導体TFTの電気的特性を広い温度範囲において再現できることを示します。