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April 2019

Know how your circuit behaves across process variation before silicon tells you, with Monte Carlo-accurate results up to 30X faster.

7 years ago

DTCO (デザインとテクノロジの同時最適化) をたった一つのコマンド・ファイルでコントロール

本ウェビナーでは、DTCO (デザインとテクノロジの同時最適化)を一つのコマンド・ファイルと一つのGDSIIレイアウトで可能にするアドバンテージについて説明します。

7 years ago

Modeling Quantum Dot Based hyLEDs using Radiant

Radiant is a graphical user interface (GUI) for TCAD simulations which lowers the entry barrier for inexperienced users to doing technology analysis. In particular, the use of guided simulation tools,

7 years ago

トランジスタ・レベル・シミュレーションの理解および最適化

本ウェビナーでは、並列およびFastSPICE解析モードを含め、SmartSpiceシミュレータの核心部をさらに詳しく説明します。

7 years ago

シルバコ、成都オフィスを開設、中国で高まるパワー半導体設計ソリューションへの要求に対応

米国カリフォルニア州サンタクララ発 - 2019年4月23日-Silvaco, Inc. (以下、シルバコ) は、本日、 シルバコの継続的な成長と中国での事業拡大のため新たに中国オフィスを開設したことを発表しました。

7 years ago

次世代のSoCデザイン: 原子からシステムまで

本ウェビナーでは、フラッシュ・メモリ、その他最新の不揮発性メモリ技術、複雑なSoC (NvidiaのXavierやAppleのA12) などの新技術が、どのようにアーキテクチャ・レベルで設計IPを使用および再利用しているかの例を示します。

7 years ago

Design IP for Automotive SoCs: Trends and Solutions

The number and complexity of automotive SoCs and Control Systems is growing dramatically to fill the demand for new features in next-generation vehicles. Let's look at the specifics. In new

8 years ago

シルバコ、SEMIおよびElectronic System Design Allianceに加盟

米国カリフォルニア州サンタクララ発 - 2019年4月16日 -IC、デジタル・ディスプレイおよび電子システムの設計用ソフトウェア、IP、サービスを半導体企業に提供する世界的リーディング・プロバイダであるSilvaco Inc., (以下シルバコ) は、本日、SEMIの戦略的協会パートナであるElectronic System Design (ESD) Allianceに新しく会員企業として加わったことを発表しました。

8 years ago

Six-Sigma Analysis of Digital Standard Cells

library of digital standard cells implements both Boolean logic and sequential storage functions. These foundation IPs are used extensively and repeatedly within application specific integrated circuits (ASICs), field programmable arrays

8 years ago

ナノデバイスにおける原子レベルのシミュレーション

本ウェビナーでは、シルバコのTCADツール・スイートへと発展したNEMO5の原子レベルのシミュレーション機能について紹介します。

8 years ago

Process Simulation – New Features in 2019 Baseline Release

2019 baseline release of Victory Process includes improvements and extensions to the following modules: Physical etching/deposition Stress simulation Annealing/oxidation