摘要
随着先进工艺节点逐步将曲线光罩图形引入量产，传统基于直角线段几何图形设计的光学邻近效应修正（OPC）、验证-以及光罩规则检查（MRC）流程正面临新的挑战。本次网络研讨会将介绍 Silvaco 量产级 PPC（Process Proximity Compensation，工艺邻近效应补偿） 产品套件，展示如何以一体化完整连贯的流程协同运作，而非一组相互独立的点工具。我们将首先介绍 PPC Interactive Optimizer，设计人员可用其在版图创建过程中运行光刻轮廓仿真，排查工艺热点、并针对不同设计规则评估其图形可印刷性，从而在流片之前，就能够充分考虑图形化工艺影响并做出优化决策。随后，我们将深入全芯片曲线光罩图形修正环节：主图形与亚分辨率辅助图形（SRAF）的生成，在优化过程中即同步执行 MRC，而非等优化完成后再修复；此外，修正后的验证与曲线光罩规则检查也直接针对曲线图形进行，无需依赖矩形图形近似。最后，我们将展示 PPC 如何接入 Silvaco FTCO™（Fab Technology Co-Optimization）智能解决方案平台，将单次光罩修正运行结果转化为结构化、可复用的工程数据，为系统化的工艺波动分析提供有力支撑。通过实例演示，我们将清晰呈现每个阶段如何在设计意图与可制造掩模数据之间显著减少迭代次数。
您将了解到
- 如何直接针对曲线轮廓执行全芯片曲线光罩修正、验证与 MRC
- PPC 与 Virtuoso 的集成如何支持在版图创建阶段的交互式光刻效果探索
- Victory DoE 如何将 PPC 接入 FTCO 工作流程，以支持系统化的工艺波动研究
主讲人
Alan Zhu
Silvaco 工程总监
Alan Zhu 现任 Silvaco 工程总监，负责领导工艺邻近效应补偿（PPC）团队，涵盖 OPC、RET、验证与建模开发。他之前曾作为软件工程总监领导Cadence 的 PPC产品线，2025年该产品线被 Silvaco 收购后他加入Silvaco。他在计算光刻与 EDA 软件开发领域拥有30年深厚经验。
建议参会人员:
OPC 与掩模工程师、计算光刻工程师、版图与设计规则工程师、工艺整合工程师、TCAD 工程师及工程管理人员。
日期: 2026年11月5日
形式: 线上
时间: 10:00 Santa Clara (Live Q&A)
时间: 11:00 Paris
时间: 10:00 Beijing
语言: 英语
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