SURGE 2025 EMEA 线上大会
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SURGE 2025 EMEA 线上大会
EMEA · 2025 年 1 月 21 日，星期二 · 线上大会
概览
2025 年 1 月 21 日
日期
EMEA
地区
线上
形式
19
三个分会场的会议
关于本次活动
SURGE EMEA 2025 于 2025 年 1 月 21 日星期二在线举行，为期一天。20 场演讲的主题涵盖 5nm 纳米线晶体管中的量子输运到 CAN XL 汽车总线。
SURGE 是 Silvaco 为其用户举办的活动。在 EMEA 大会上，三家公司分享了各自的工作成果：Ciena 介绍量子输运，SilTerra 介绍库表征，Silicon Creations 介绍寄生参数缩减。斯坦福大学和维也纳工业大学带来了学术研究内容。Silvaco 的议程包括 CEO 主题演讲以及 TCAD、EDA 和 IP 的工程技术进展。董事会成员 Wally Rhines 介绍了 AI 在 EDA 中的应用。
分会场
- 主会场
- 半导体工艺与器件分会场（TCAD）
- IC 设计分会场（EDA 和 IP）
议程
SURGE 北美 2025 全部 20 场演讲的录像均位于 Silvaco 支持网站。要打开
录像，请登录该网站，或使用工作、大学或政府机构邮箱填写简短表单。
主会场
公司最新进展
Babak Taheri 博士，Silvaco，CEO及董事会成员
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
自 2019 年 8 月起，他一直担任 Silvaco CEO，仅在 2021 年 9 月至 11 月期间暂时离任。此前，他担任咨询公司 Integrated Biosensing Technologies 的 CEO，更早曾任职于 Invensense、SRI International 和 Apple。他是 Sunright Limited 董事会成员，拥有加州大学戴维斯分校生物医学工程博士学位。
人工智能如何将EDA推向新高度
Wally Rhines，Cornami 总裁及CEO、Silvaco董事会成员
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
他自 1993 年起担任 Mentor Graphics CEO，直至该公司于 2017 年被 Siemens 收购。目前，他领导 Cornami，并担任 Qorvo 董事长，自 2022 年 9 月起担任 Silvaco 董事会及审计委员会成员。他拥有斯坦福大学材料科学与工程博士学位。
半导体工艺和器件分会场
主题演讲
Eric Guichard 博士，Silvaco TCAD 业务部高级副总裁兼总经理
摘要
介绍 Victory TCAD 仿真器的现状、TCAD 在新器件开发阶段所发挥的作用，以及 Silvaco 未来的 TCAD 规划。
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
他自 2012 年 11 月起负责 Silvaco 的 TCAD 业务，此前担任应用副总裁四年。他于 1995 年加入 Silvaco SA（前身为 Silvaco Data Systems），开始了在 Silvaco 的职业生涯。他拥有格勒诺布尔的材料科学硕士学位和半导体物理博士学位。
产品：TCAD
AI 将 EDA 推向新高度
Wally Rhines，Cornami 总裁兼 CEO、Silvaco 董事会成员
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
SURGE 北美 2025 全部 20 场演讲的录像均位于 Silvaco 支持网站。要打开
录像，请登录该网站，或使用工作、大学或政府机构邮箱填写简短表单。
半导体工艺与器件分会场（TCAD）
TCAD 最新进展
Eric Guichard 博士，Silvaco TCAD 业务部高级副总裁兼总经理
摘要
介绍 Victory TCAD 仿真器的现状、TCAD 在新器件开发阶段所发挥的作用，以及 Silvaco 未来的 TCAD 规划。
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
他自 2012 年 11 月起负责 Silvaco 的 TCAD 业务，此前担任应用副总裁四年。他于 1995 年加入 Silvaco SA（前身为 Silvaco Data Systems），开始了在 Silvaco 的职业生涯。他拥有格勒诺布尔的材料科学硕士学位和半导体物理博士学位。
产品：TCAD
NanoHub 人才培养
Peter Griffin 博士，斯坦福大学
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
他的工作处于半导体制造与生物工程的交叉领域。他曾担任 DARPA、NIH 和 SRC 资助项目的主要撰稿人，并在斯坦福大学 Lars Steinmetz 教授的实验室开展用于诊断的阻抗测量。他与 Jim Plummer 合著了一部广泛使用的微制造教材（Cambridge University Press，2024 年）。
产品：Jivaro Pro
通过量子输运仿真研究纳米线晶体管的低温特性
Sanam Moslemi-Tabrizi，Ciena 模拟工程师
摘要
随着 Ciena 模拟设计尺寸的缩小，所提供的器件模型逐渐失去精度，因为经典仿真器无法捕捉的量子效应开始占主导地位。Ciena 的解决方案是在 Victory Atomistic 中建立自己的模型，将泊松方程和薛定谔方程耦合进行自洽求解。Silvaco 团队与 Ciena 合作改进了该工具。尽管工艺数据有限，5nm 器件在室温下的仿真趋势仍与实验室测量结果一致。用于量子比特研究的极低温特性更具挑战性：测量成本很高，因此 Ciena 希望由仿真替代测量。目前的工作重点仍是极低温度和低偏置下的收敛问题。
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
她在康考迪亚大学的硕士研究（2007 年）计算了多维纳米结构的本征态。在 Ciena，她负责模拟电路验证和量子器件模型。她拥有大不里士大学电气工程学士学位（B.Eng.）。
产品：Victory Atomistic
用于多尺度等离子体工艺集成与优化的机器学习
Lado Filipovic 博士，维也纳工业大学副教授
摘要
高深宽比刻蚀必须同时在两个尺度上达到要求：整个等离子体反应器尺度和单个结构内部尺度。Filipovic 博士的团队将这两个尺度连接起来。机器学习代理模型预测特征尺度模型所需的通量。这些模型使用实验数据和混合等离子体设备模型（HPEM）的设备仿真数据进行训练，其运行速度足以动态调整模型。长期目标是建立能够实时优化的等离子体数字孪生，减少反复试验，使工艺更加环保。
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
他是维也纳工业大学微电子研究所副教授。他在该校领导的 Christian Doppler 实验室获得 Silvaco 支持，开展器件和传感器工艺的跨尺度建模。他的团队还与 Fuji Electric 和 Infineon 合作，研究用于传感的石墨烯、MoS2 等二维材料。他是 IEEE 高级会员，分别于 2012 年和 2020 年在维也纳工业大学获得博士学位和教授资格。
如何利用 Victory Analytics 和机器学习校准 TCAD 数据
Stefania Carapezzi 博士，Silvaco 现场应用工程师
摘要
根据测量数据校准 TCAD 通常依赖专家手动调整参数，直至曲线吻合。Carapezzi 博士展示了如何使用机器学习完成拟合。Victory DoE 按照实验设计运行 TCAD 仿真并收集输出结果，随后 Victory Analytics 搜索与测量结果匹配的参数集。她的测试案例是一款 AlGaN/GaN HEMT。
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
她于 2023 年 3 月加入 Silvaco France。此前，她曾在博洛尼亚电子系统高级研究中心和蒙彼利埃大学 LIRMM 实验室（CNRS）从事博士后研究。她的 TCAD 研究聚焦于超越 CMOS 的器件及纳米级晶体管的量子行为。她于 2014 年获得博洛尼亚大学物理学博士学位。
产品：Victory Analytics · Victory DoE
人工智能在晶圆厂工艺协同优化中的应用
Christian Caillat 博士，Silvaco TCAD 高级资深现场应用工程师
摘要
分批实验中的每片晶圆都需要投入资金和时间。某个参数无法达到目标，可能使团队持续试验数周甚至数月。针对单个工艺步骤建立简化而准确的机器学习模型，可提供更快捷的途径，而且这种方法已经用于生产。FTCO 将晶圆厂数据与 TCAD 数据结合，构建数字孪生模型。Caillat 博士通过实际示例演示这一流程，帮助您了解如何将其应用于自己的工艺。
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
加入 Silvaco 前，他在 Micron Technology 工作了十三年，涉及先进存储器建模、与 imec 合作研究新兴存储器，以及领导 3D NAND 单元团队。自 2023 年 6 月起，他在爱达荷州博伊西为 Silvaco 工作。他拥有格勒诺布尔的电子工程学位和微电子学博士学位。
产品：FTCO
利用基于物理、由 AI 驱动的数字孪生加速 SiC 功率器件设计优化并提高制造良率
David Green 博士，Silvaco TCAD 应用工程师
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
18 年来，他一直为 EMEA 地区的 Silvaco TCAD 客户提供售前和售后支持，应用涵盖功率、显示、可靠性和光学。他在英国剑桥工作，同时管理 TCAD R&D 项目。他的博士和博士后研究涉及用于集成电路的功率器件的设计、仿真和测试。
功率器件 SPICE 建模与详细的 SiC DMOS 参数提取方法
Bogdan Tudor 博士，Silvaco 建模负责人
摘要
Tudor 博士首先介绍将 Si、GaN 或 SiC 功率器件纳入 SPICE 的几种方法：紧凑模型、宏模型或 Verilog-A。随后，他以一款 SiC DMOS 为例演示完整流程。参数提取基于 I-V 和 C-V 数据，并处理器件随偏置变化的电容。接着，根据动态特性调整模型，最后处理动态温度效应。
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
他的专长包括器件表征、紧凑模型开发和 MOSFET 老化可靠性。自 2017 年起，他在 Silvaco 工作并领导器件表征团队。此前，他曾在 Synopsys 担任高级 R&D 工程师 12 年，随后在 ProPlus Design Solutions 担任首席软件架构师四年。他拥有布加勒斯特理工大学硕士和博士学位。
IC 设计分会场（EDA 和 IP）
EDA 和 IP 最新进展
Ben Louie，Silvaco IP 业务部副总裁兼总经理
摘要
逐项介绍模拟与定制 IC 工具的新功能，以及 Silvaco EDA 的后续规划。
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
他负责 Silvaco 的全部半导体设计 IP，拥有超过 22 年的存储器设计经验，涵盖 NOR、NAND 闪存及 MRAM。他曾任职于 Micron 和 Xilinx，以及 MagSil、Spin Memory 和 Zeno Semiconductor 等初创公司。他拥有圣克拉拉大学电气工程学士和硕士学位，已获授权 123 项美国专利。
产品：模拟与定制 IC
分立功率器件物理设计的 EDA 解决方案
Stefano Pettazzi，Silvaco 资深应用工程师
摘要
分立功率器件中的许多几何结构为曲线，而曲线形状使规则检查变得困难。版图在 Expert 中绘制，验证在 SmartDRC 中运行；即使设计包含大量曲线，SmartDRC 仍能保持速度和精度。最后简要介绍功率器件的 TCAD 与 EDA 联合流程，使器件物理和物理设计均由同一家供应商提供支持。
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
他在 EDA 和微电子领域拥有近 25 年经验，自 2012 年起在 Silvaco 工作，为客户从前端到后端的设计流程提供支持。他拥有帕维亚大学电气与电子工程硕士学位。
产品：Expert · SmartDRC/LVS
利用 Jivaro Pro 先进寄生参数缩减技术加速高频模拟混合信号组件验证
Chung-Chun Chen，Silicon Creations 模拟设计总监
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
他是一名时钟和 SerDes 设计工程师，在 Silicon Creations 开发的模拟 IP 包括 PLL、CDR、相位插值器和均衡器。加入 Silicon Creations 前，他曾在新竹的 TSMC 和亚特兰大的 Samsung Electro-Mechanics 工作，并于 2018 年至 2019 年任职于 Realtek 旗下的 Ubilinx Technology。他发表了 15 篇以上同行评审论文，于 2009 年获得台湾大学博士学位。
产品：Jivaro Pro
使用 Viso 调查、分析和解决先进寄生参数问题
Carlos Berlitz，Silvaco 公司应用工程师
摘要
在先进工艺节点设计中，为定位寄生参数问题而反复运行仿真，既缓慢又费力。Viso 直接处理提取的 RC 网络，估算时序、检查串扰并比较网络间的匹配情况，然后突出显示需要关注的设计部分。演示采用高速电路，无需在各步骤之间进行漫长的仿真循环。
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
他负责支持和测试 Silvaco 用于分析与缩减 RC 寄生参数的 EDA 工具，并参与制定其发展路线图。他于 2023 年加入 Silvaco，此前曾在其他公司从事电路设计和支持工作。他拥有里昂国立应用科学学院博士学位、格勒诺布尔阿尔卑斯大学硕士学位及 UFRGS 学士学位。
产品：Viso
标准单元表征的挑战与改进
Siti Mariyam，SilTerra IP 设计支持
摘要
SilTerra 的工艺技术持续发展，每次更新都需要进行新一轮库优化和验证。Siti Mariyam 介绍 Silvaco 工具如何帮助 SilTerra 的 IP 库团队完成这些工作，以及如何由此缩短表征时间。
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
她在 SilTerra Malaysia 的专长是标准单元和 IO 库开发，涵盖直至硅片验证的全过程。她拥有马来西亚理工大学电子系统工程学士学位。
产品：Standard Cell
面向低电压应用的先进 FinFET 节点标准单元库 IP
Fernando Carrion，Silvaco 设计工程师
摘要
当电源电压降至超低电压范围时，FinFET 的行为会发生变化，进而影响标准单元的面积、时序、功耗和变异性。介绍相关物理机制后，Fernando Carrion 将讲解 Silvaco 的低电压 FinFET 库，其中包括状态保持触发器、多比特触发器、电源管理套件（PMK），以及减少晶体管堆叠数量的高扇入单元。多阈值版本可让您决定在哪些位置优先考虑速度而非功耗。
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
他在 Silvaco 从事标准单元设计和表征工作，已有四年多经验。他毕业于巴西 UFRGS 电气工程专业，并获得 IC Brazil 项目的模拟设计工程师认证。
产品：Standard Cell
使用 Cello FinFET 开发先进节点库
Felipe Bortolon，Silvaco IP 工程经理
摘要
进入新工艺节点不应意味着需要从头绘制单元库。在本演示中，Cello FinFET 以现有库为起点，根据 CDL 网表自动生成 GDSII 版图。
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
他担任 Cello 工程经理；Cello 是 Silvaco 用于自动化标准单元版图设计的框架。他拥有 UFRGS 微电子学硕士学位及 PUCRS 计算机工程学位。
产品：Cello FinFET
适用于低电压工作的带隙基准
Ahmad S. Mazumder，Silvaco 工程总监
摘要
0.45 V 和 0.92 V：这是 Silvaco 基于 TSMC N3P 3nm FinFET 工艺开发的两种带隙基准。带隙基准应在电源、负载和工艺变化时保持稳定。在 -45°C 至 150°C 的整个温度范围内，这两种基准的漂移均不超过 1%。
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
他领导 Silvaco 模拟和接口 IP 的开发及客户支持工作，于 2019 年加入其 IP 部门。此前，他在 C-Cube Microsystems、Broadcom 和 Intel 从事高速存储器、SerDes、ESD 和可靠性工作 28 年。他拥有纽约市立大学 VLSI 设计硕士学位。
适用于低电压工作的 LDO
Shaikh A Shams，Silvaco 资深工程师
摘要
无需外部电容，负载电流最高达 30 mA，面积小于 3,400 µm²。这是 Silvaco 基于 TSMC N3P 3nm FinFET 设计的 LDO。其输入电压为 1.2 V ±10%，输出可从 0.45 V 到 0.9 V 按 50 mV 步进编程设置。在 -40°C 至 125°C 的所有 PVT 工艺角下，PSRR 均大于 40 dB（1 kHz）和 29 dB（10 MHz）。在相同工艺角下，1 A/ns 的负载阶跃引起的输出电压正负变化均小于 18 mV。
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
他在 Silvaco 模拟/接口 IP 部门开发模拟和接口 IP，于 2020 年加入该部门。此前，他在 Dialog Semiconductor、GlobalFoundries 和 Intel 工作 22 年，涉及高速 SerDes、稳压器，以及 AMS 设计与验证。他拥有亚利桑那大学电气与计算机工程硕士学位。
CAN-XL 简介
Mauricio Brochi，Silvaco 汽车 IP 总监
摘要
本演讲介绍控制器局域网的三代技术。1986 年的初代技术允许最高优先级帧占用总线而不破坏其他帧，并隔离故障节点，使其余节点能够继续工作。随着 ECU 数据包增大，其吞吐量上限逐渐显现；CAN FD 于 2011 年提供了 8 Mbps 速率和 64 字节有效载荷。CAN XL 将速率提高到 20 Mbps，有效载荷达到 2,048 字节。它还与包括 10BASE-T1 在内的以太网标准互联，这对于汽车向软件定义架构转变至关重要。
演讲嘉宾简介，2025 年 1 月
他在汽车和工业 SoC 系统及 IP 领域已有三十多年经验。在 Motorola 以及后来的 NXP，他曾从事 CAN 控制器、汽车定时器、低功耗控制器和微控制器内核相关工作。他拥有巴西坎皮纳斯大学电子工程学位。
产品：汽车 IP
SURGE EMEA 2025 主题
三场有关 SiC 和分立功率器件的演讲：数字孪生、DMOS SPICE 参数提取及曲线版图 DRC
Ciena 的量子输运、维也纳工业大学用于等离子体刻蚀的机器学习，以及 Victory 最新进展
SilTerra 的表征工作、低电压 FinFET 库及 Cello FinFET 自动化
晶圆厂工艺步骤的数字孪生，以及使用 Victory DoE 和 Victory Analytics 进行 TCAD 校准
Silicon Creations 的 Jivaro Pro 应用、Viso 寄生参数分析，以及产品组合最新进展
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