SURGE オンラインイベント EMEA 2023
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SURGE オンラインイベント EMEA 2023
EMEA · 2023年11月21日(火) · オンラインイベント
開催概要
2023年11月21日
日付
EMEA
地域
オンライン
開催形式
19
3つのトラックのセッション
このイベントについて
SURGE EMEA 2023は、2023年11月21日(火)にオンラインで開催され、1日にわたり講演が行われました。
SURGEはSilvacoが毎年開催するユーザーイベントで、エンジニアや研究者がTCAD、EDA、IPツールを用いた開発成果を紹介します。今回の19講演のうち7講演をSilvacoが担当し、残る12講演は産業界と研究機関が担当しました。STMicroelectronicsから3名が登壇したほか、Micron、Tower Semiconductor、Kepler Computing、Arilが参加しました。研究機関からはCEA-Leti、TU Wien、Purdue University、Ferdinand-Braun-Institutが成果を紹介しました。テーマはEDAにおける機械学習から、SiCの短絡、MRAMセル、4 Kで動作するLVDS I/Oまで多岐にわたりました。
トラック
- 全体セッション
- TCADトラック
- EDA・IPトラック
アジェンダ
SURGE EMEA 2023の各講演の録画は、
Silvacoのサポートサイトからダウンロードできます。事前にサインインするか、
企業、教育・研究機関、政府機関のメールアドレスでアクセスを申請してください。
全体セッション
開会のご挨拶と紹介
Babak Taheri博士、Silvaco, Inc. CEO兼取締役
講演者略歴(2023年11月時点)
機械学習:EDAの新たな革命
Patrick Groeneveld博士
概要
講演者略歴(2023年11月時点)
半導体製造プロセスのシミュレーションと最適化に向けた「デジタルツイン」としてのTCADモデル
Raul Camposano、Silvaco, Inc. CTO
概要
講演者略歴(2023年11月時点)
2022年2月からSilvacoのCTOを務めています。Synopsysに13年間在籍し、後半はCTOを務めました。その後、2社のCEOを歴任しました。1社目のEDAクラウド企業Nimbicは2014年にMentor Graphicsが、2社目のSage Design Automationは2020年にApplied Materialsが買収しました。半導体インキュベーターSilicon Catalystのパートナーであり、StanfordでEDAと機械学習ハードウェアの講義を行っています。Karlsruhe Institute of Technologyでコンピュータサイエンスの博士号を取得。1999年からIEEE Fellowです。
TCADトラック
TCADシミュレーションの最新動向
Eric Guichard博士、Silvaco, Inc. シニア・バイスプレジデント兼TCAD事業部ゼネラルマネージャー
概要
講演者略歴(2023年10月時点)
製品: TCAD
表面の点状欠陥が短絡現象に及ぼす影響
Eric Guichard博士、Silvaco, Inc. シニア・バイスプレジデント兼TCAD事業部ゼネラルマネージャー
概要
講演者略歴(2023年11月時点)
製品: TCAD
パワーアプリケーション向けノーマリーオフ型p-GaN HEMTsにおけるMg活性化のピンチオフ電圧への影響に関する研究
Giovanni Giorgino、STMicroelectronics ADG R&D Power & Discretes部門 GaNデバイスエンジニア
概要
講演者略歴(2023年11月時点)
GaNベースのパワーデバイスの設計・開発を支援するSilvacoシミュレーションツール
Eldad Bahat-Treidel博士、Ferdinand-Braun-Institut シニアサイエンティスト
概要
横型GaNパワーデバイスは、650 Vクラスまでのスイッチング用途で商用化の成熟段階に近づいています。ただし、降伏電圧に対するRDS_ON × Aは、まだ材料の理論限界に達していません。この差の一因は耐圧と分散のトレードオフであり、もう一因はシリコン上GaNの縦方向耐圧の制約です。この差を縮めるため、2つのデバイス開発アプローチが進められています。
- 縦型GaNトランジスタは、横型HFETよりウェーハ面積を節約でき、RDS_ON × Aを10分の1の1.0 mΩ·cm²に低減します。また、ひずみのないホモエピタキシーにより、低いバックグラウンドドーピング濃度の厚いドリフト層を形成でき、1 kVを超える耐圧を実現します。
- 意図的にドープしていないAlNバッファ上の横型HFETは、バッファ界面の大きな伝導帯オフセットによりGaNチャネルを閉じ込めます。その結果、耐圧が向上し、分散が低減します。
FBHは物理ベースのシミュレーションを用いて両方を開発しており、Bahat-Treidel博士がSilvacoツールの役割を紹介します。
- FBHはGaNフィンMISFETのコンダクタンスをシミュレーションし、測定結果と照合するとともに、形状やエピタキシャル層による変化を予測します。
- 縦型デバイスでは、アバランシェモデルを用いてエッジ終端を設計し、結果を実験および理論と比較します。
- AlN/GaN横型HFETでは、エピタキシャル積層構造に適合させたアバランシェモデルと、トラッピング・デトラッピングのシミュレーションにより、特異な動的オン抵抗を説明します。
講演者略歴(2023年11月時点)
CMOSを超えるメモリ技術
Debo Olaosebikan博士、Kepler Computing 共同創業者兼CEO
概要
講演者略歴(2023年11月時点)
製品: TCAD
CMOSおよびRRAMアプリケーションに向けたナノスケール輸送
François Triozon、CEA-Leti 研究員
概要
講演者略歴(2023年11月時点)
スピントロニクス磁気抵抗メモリの数値シミュレーション
Nils Jørstad、TU Wien 博士課程研究員
概要
講演者略歴(2023年11月時点)
量子輸送ツール開発の25年間の成果と世界への影響
Gerhard Klimeck、Purdue University 副CIO兼学術研究担当アソシエイト・バイスプレジデント
概要
講演者略歴(2023年11月時点)
原子レベルの精度による2D-TMDsチャネルFETのシミュレーション
Phillipe Blaise博士、Silvaco, Inc.
概要
講演者略歴(2023年11月時点)
SURGE North America 2025の全20講演の録画 a
SilvacoのTCAD部門で、原子論的シミュレーション担当シニア・アプリケーション・エンジニアとして3年間勤務しています。それ以前はCEA-Letiで15年間、新しいメモリデバイスやトランジスタを原子単位でシミュレーションしていました。IEEE IEDMのModeling and Simulation Committeeの委員を務めた経験があり、50本以上の学術誌論文を共同執筆し、5件の特許に発明者として名を連ねています。ENSIMAGで応用数学の修士号、Université Grenoble Alpesで固体物理学の博士号を取得しています。
講演はSilvacoのサポートサイトに掲載されています。視聴するには、
同サイトにサインインするか、勤務先、大学、政府機関のメールアドレスを使って簡単なフォームにご記入ください。
EDA・IPトラック
アナログ・カスタム設計とIPの最新動向
Dan Fitzpatrick、Silvaco, Inc. バイスプレジデント兼EDA事業部ゼネラルマネージャー
概要
講演者略歴(2023年11月時点)
製品: アナログ・カスタムIC
SPICE向けパワーデバイスモデリング
Bogdan Tudor、Silvaco, Inc.
概要
講演者略歴(2023年11月時点)
設計キットと標準セルライブラリの開発・品質保証におけるSilvacoとTowerの協業
Ofer Tamir、Tower Semiconductor CAD・設計支援・サポート担当マネージングディレクター
概要
講演者略歴(2023年11月時点、Ahmad S. Mazumder)
製品: Expert, Gateway, SmartDRC/LVS, Standard Cell
高効率コンピューティングに向けた高速・高信頼・低電圧SRAM
Sinan Doluca、Aril, Inc. 技術担当バイスプレジデント
概要
Silvacoアナログ・カスタム設計プラットフォームを用いた極低温アプリケーション向け高性能I/O設計
Ahmad S. Mazumder / Shaikh Shams、Silvaco, Inc.
概要
Silvacoのアナログ・インターフェースIPチームは、4 K(−269°C)で動作する完全に機能する2 Gbps LVDS I/Oを設計し、提供しました。この温度では、デバイスの特性は、エンジニアが標準的な−55°Cから125°Cの範囲で把握しているものと異なります。そのため、モデリングチームがまず4 K向けのモデルファイルを作成しました。続いてIPチームが、SilvacoのEDAツールを用いてI/Oの設計、レイアウト、関連資料および各種ビューの作成を行いました。
LVDS PHYは、送信器、受信器、付加ブロックを組み合わせ、PVTに依存しない性能を実現しています。送信器は100 Ωの負荷に3.5 mAを流し、基板、シグナルインテグリティ、パワーインテグリティの要件に対応するプログラマブル・イコライゼーションを備えています。受信器はPAD+端子とPAD−端子の間に、PVTに依存しない100 Ωの終端を備えています。
講演者略歴(2023年11月時点、Ahmad S. Mazumder)
講演者略歴(2023年11月時点、Shaikh Shams)
製品: アナログ・カスタムIC
Visoによる高度な寄生素子解析のデモンストレーション
Ayoub HAGROU、STMicroelectronics アナログ設計エンジニア
概要
講演者略歴(2023年11月時点)
SURGE EMEA 2023のテーマ
SiCの短絡に関わる欠陥、p-GaNの活性化、FBHのGaNデバイス設計、パワーFETのSPICEモデル
Victoryの最新情報、製造のデジタルツインとしてのTCADモデル、KeplerのCMOSを超えるメモリ
MRAM、RRAM、Micronのメモリモデリング、Arilの低電圧SRAM
設計ツールの最新情報、Towerのフロー適格性評価、4 KのLVDS I/O、Visoによる寄生素子解析