先進CMOSやメモリの開発では、プロセスを確定してからデバイスを設計することはできません。FinFET、GAAナノシート、3D NANDスタックは3D構造であり、各エッチングと成膜工程が電気的な挙動を決定します。2Dで簡略化すると、新しいノードの成否を左右する効果そのものが失われます。
もう1つの課題はばらつきです。アレイ内の各ビットセルは同じセルの複製であるため、10億分の1の故障率でも歩留まり低下につながります。1つのセルや一部分をシミュレーションして外挿するだけでは、推測にとどまります。同じ問題がはるかに高いコストでシリコンに現れる前に、メモリ全体を把握する必要があります。