• Victory Process

Victory Process 2D & 3D 版图驱动仿真器

TCAD工艺仿真对于开发新技术以及维护现有半导体工艺至关重要。制造过程的虚拟化帮助企业实现了半导体工艺“数字孪生”,工程师可以更好地理解工艺中的变化,优化器件性能,提高生产效率,同时缩短研发周期和制造周期。

优势

  • 支持优化现有工艺,并提供可预测的缩放行为。
  • 提高对新技术挑战的理解
  • 用仿真代替实验,降低掩模和原型制造等成本。
  • 对设计公司而言,通过创建基于PDK的仿真工艺,缩短产品的上市时间。

典型应用

  • 硅基: FinFET, FDSOI, Bulk CMOS
  • 显示技术: TFT, LED, OLED
  • 功率和射频技术: Silicon BiCMOS & BCD, SiC, GaN
  • 光电子和硅光: CIS, Solar Cell, Laser, Waveguides, Modulators

TCAD 资源



Si、GaN和SiC功率器件的SPICE建模

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