Victory Process 2D & 3D 版图驱动仿真器
TCAD工艺仿真对于开发新技术以及维护现有半导体工艺至关重要。制造过程的虚拟化帮助企业实现了半导体工艺“数字孪生”,工程师可以更好地理解工艺中的变化,优化器件性能,提高生产效率,同时缩短研发周期和制造周期。
优势
- 支持优化现有工艺,并提供可预测的缩放行为。
- 提高对新技术挑战的理解
- 用仿真代替实验,降低掩模和原型制造等成本。
- 对设计公司而言,通过创建基于PDK的仿真工艺,缩短产品的上市时间。
典型应用
- 硅基: FinFET, FDSOI, Bulk CMOS
- 显示技术: TFT, LED, OLED
- 功率和射频技术: Silicon BiCMOS & BCD, SiC, GaN
- 光电子和硅光: CIS, Solar Cell, Laser, Waveguides, Modulators
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