• Victory Process

Victory Process 2D & 3D 版图驱动仿真器

TCAD工艺仿真对于开发新技术以及维护现有半导体工艺至关重要。制造过程的虚拟化使企业能够维护其半导体工艺的“数字孪生”。工艺中的变化可以很好地被理解;最大化器件性能,提高生产效率,同时最小化工程周期和周期时间。

好处

  • 允许优化现有工艺,并提供可预测的缩放行为
  • 提高对新技术挑战的理解
  • 通过仿真来代替实验,降低掩模和原型制造的成本
  • 对设计公司而言,通过基于PDK的虚拟工艺的创建,缩短产品的上市时间

典型应用

  • 硅基: FinFET, FDSOI, Bulk CMOS
  • 显示技术: TFT, LED, OLED
  • 功率和RF: Silicon BiCMOS & BCD, SiC, GaN
  • 光电子和硅光: CIS, Solar Cell, Laser, Waveguides, Modulators

TCAD 资源



Learn How TCAD is a Key Enabler to Photodiode Development


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