Victory Process 2D/3D レイアウト・ドリブン・シミュレータ
TCAD プロセス・シミュレーションは、新技術の開発や既存の半導体プロセスの維持に不可欠です。 製造プロセスを仮想化することで、企業は半導体プロセスの「デジタル・ツイン」を維持することができます。 プロセス変更の影響を十分に理解することで、デバイスの性能を最大限に引き出し、製造歩留まりを向上させるとともに、開発サイクルの回数や時間を最小限に抑えることができます。
利点
- 既存のプロセスの最適化を可能にし、スケーリング挙動の予測を可能にする
- 新規技術の課題に対する理解を深める
- 実験をシミュレーションに置き換えることで、マスクや試作の製造コストを削減
- ファブレス企業がシリコン・ウェハ製造前に仮想プロセス・ベースのPDKを作成することで市場投入までの時間を短縮
用途
- アドバンスドCMOS：FinFET、FDSOI、バルクCMOS
- ディスプレイ・テクノロジ： TFT, LED, OLED
- パワー＆RFテクノロジ： シリコンBiCMOSおよびBCD、SiC、GaN
- 光学・フォトニクス： CIS、太陽電池、レーザ、導波路、変調器
Simulation Framework for Device-packaging Co-design for Power Electronics
Understanding of Geometrical Boundary Conditions in Victory Process
Automatic Grid Refinement for Thin Material Layer Etching in Process TCAD Simulations
How to Search, View and Use Default Parameters from the Silvaco Material DataBase SMDB with DeckBuild