• Victory Process

Victory Process 2D/3D レイアウト・ドリブン・シミュレータ

TCAD プロセス・シミュレーションは、新技術の開発や既存の半導体プロセスの維持に不可欠です。  製造プロセスを仮想化することで、企業は半導体プロセスの「デジタル・ツイン」を維持することができます。  プロセス変更の影響を十分に理解することで、デバイスの性能を最大限に引き出し、製造歩留まりを向上させるとともに、開発サイクルの回数や時間を最小限に抑えることができます。

利点

  • 既存のプロセスの最適化を可能にし、スケーリング挙動の予測を可能にする
  • 新規技術の課題に対する理解を深める
  • 実験をシミュレーションに置き換えることで、マスクや試作の製造コストを削減
  • ファブレス企業がシリコン・ウェハ製造前に仮想プロセス・ベースのPDKを作成することで市場投入までの時間を短縮

用途

  • アドバンスドCMOS:FinFET、FDSOI、バルクCMOS
  • ディスプレイ・テクノロジ: TFT, LED, OLED
  • パワー&RFテクノロジ: シリコンBiCMOSおよびBCD、SiC、GaN
  • 光学・フォトニクス: CIS、太陽電池、レーザ、導波路、変調器

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ニュース

お客様の声

Coby Hanoch
 シルバコは、半導体企業で広く使用されている最先端デバイス・モデルおよびTCADツールを提供しています。我々の共同開発が成功したことにより、業界で最も強力なシミュレーション・ツール上で、WeebitのReRAMテクノロジにアクセスすることが容易になります。お客様は、新しく開発されたTCADモデルにより、製造においてコストと時間のかかる処理を省略しながら、次世代製品の開発およびリリースを速めることが可能となります。習得、開発、テストといった数ヶ月もの時間がかかるサイクルが今ではなくなりました。このことは、Weebitによるもう1つの重要なマイルストーンであり、より多くのグローバルなOEMカスタマの採用を加速します。 
四戸孝氏
 当社は全く新しい独自の製法により酸化ガリウムデバイスの開発を行っています。このような新規デバイスの開発を効率よく進めるにはデバイス・シミュレーションの活用が重要になってきます。今回シルバコのデバイス・シミュレータを採用するにあたり、シルバコの持つワイドバンドギャップ半導体に対する豊富な実績、パワーデバイスに対する深い知見が決め手となりました。今後の実用化に向けてGaO™パワーデバイスの開発が一層進んで行くものと期待しています。