标准单元库迁移和优化
概述
Cello PlanarTM 将数字标准单元库的设计和自动化集中在一个解决方案中。它支持设计师控制和修改库中所有单元的各个属性，调整精确，可满足最严格的设计要求。Cello Planar 支持工程师复用现有设计工作，优化晶体管尺寸、高度和DFM规则等参数，从而在功耗、频率和面积之间平衡取舍。此外，Cello Planar 提供全面的版图自定义脚本接口（使用TCL），能够与第三方验证工具如DRC、LVS和PEX等无缝集成，可以在版图编辑流程中灵活地调用它。
先进技术节点版图自动化流程
- 兼容所有设计规则
- 支持单行和双行高度单元
Cello Planar 流程
功能特性
- 快速设置工艺参数和制造设计规则，在使用第一周内就可清除掉版图中的DRC错误
- 支持先进的工艺技术，包括满足敏感的间距要求和包含规则、选择最优的形状组合、支持自对准双重成像技术（SADP）和局部互连等
- 可以并行处理进程，提高了工作效率
- 与先进的第三方DRC、LVS和LPE工具集成，在对客户现有流程干扰最小的情况下提供高质量版图的设计方案
- GDSII文件或自动生成的版图可以在开始就按照合理的驱动能力和输入激励的斜率来设计，以保证最后一级输出的速度和驱动能力达到要求
- 使用Tcl脚本，灵活实现定制版图的需求
- 支持Cadence Virtuoso插件
主要优势
- 消除或显著减少版图设计的手动工作
- 显著提高生产力
- 支持对不同维度的进一步探索（单元的设计结构、设计规则、设计尺寸、DFM规则）
- Cello可以对不同结构的标准单元、不同的技术节点以及不同的代工厂之间对版图进行迁移
- 轻松扩展您的标准单元库组合
- 重复使用版图
- 交互式的版图修改和优化
- 结构化的工作流程，新版图工程师两周时间就可以学会使用
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