Expert：版图编辑
Silvaco Expert™ 是一款层次式IC版图编辑器，具有高容量和使用灵活的特点，可以被应用于多种硅工艺下的模拟、混合信号、射频和数字电路的版图设计。作为Silvaco定制IC设计套件的关键部分，Expert与原理图设计工具Gateway和物理验证工具SmartDRC/LVS无缝集成。与Calibre RealTime的链接可按需求以交互方式提供DRC质量验证。Expert的界面直观，设置简单，具有交互式的规则检查，能够帮助设计师快速生成正确的版图，从而实现快速流片。
概述
如今，电路设计师面临的主要挑战是IC技术越来越复杂且快速变化，需要验证和纠正的设计规则越来越多，设计数据急剧增加而项目时间急迫。
Silvaco Expert旨在提供灵活、高效，高性能的定制IC工具来应对这些日益增长的挑战。它的可配置性和全角度特性使其广泛地适用于各种IC技术要求，包括CMOS、BiCMOS、GaAs和许多其他工艺，支持行业标准设计格式，并提供许多流程设计工具包（PDK），包括流行的IPDK（可互操作PDK）。它易于安装，可导入现有的Virtuoso信息（如果可用），方便地设置技术文件。
Expert的数据库体系结构为数百万以上规模晶体管设计提供了极快的加载、查看和编辑操作，普通的工作站即可使用。具有多窗口分层编辑功能，支持多用户使用，拥有强大的脚本和API，能够显著提高设计团队的工作效率。
Expert可与Silvaco或第三方工具集成，进行实时的交互式DRC、错误检查和更正版图，从而缩短设计时间。
功能特性
- 可定制的GUI、脚本和多用户共享库环境
- 在位编辑、分解视图和展开数据
- DRC Assist帮助设计师在编辑操作时检查设计规则，可以显示错误并以交互方式更正
- Expert可以通过高亮显示体现节点和版图的连接关系
- 使用JavaScript或LISA脚本语言通过网表来产生版图
- 精确测量的任何角度规则
- 与Gateway原理图编辑器紧密集成，允许在逻辑设计和物理设计之间进行交叉验证
- 广泛的自定义PDK集和对iPDK的支持
- 制作版图与版图验证（LVL）
- 结合Calibre Interactive和Calibre RVE进行物理验证
- 网表驱动的版图（NDL）提高了版图设计的周转时间（TAT）
- TFT和平板使用的等电阻布线
- 加密功能，保护有价值的客户和第三方知识产权
- 与Silvaco的验证套件SmartDRC/LVS（DRC/LVS/NET）和寄生提取工具Hipex集成
- 与Silvaco基于场解算器的3D RC提取工具紧密集成
优势
- 凭借直观而强大的编辑功能、交互式DRC和错误查看，提供高效的版图编辑环境
- 快速加载、编辑和查看超大数据库的GDSII文件
- 灵活性和可配置性，可用于多种类型的硅技术
应用
- 模拟、数字、混合信号和射频
技术规格
- 支持的输入/输出格式：GDSII、LEF/DEF、DXF、OASIS、CIF、Applicon、Open Access数据库、.eld和 .sld等
- 支持OpenAccess iPDK
- 脚本支持：JavaScript，Lisa
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