Victory TCAD Solution

Complete Process, Device Modeling and Simulation Flow

Leader in Power, Display, Optoelectronics

Virtual Wafer Fab Experimentation

Technology Co-Optimization Environment

Victory TCAD Solution

Complete Process, Device Modeling and Simulation Flow

Leader in Power, Display, Optoelectronics

Virtual Wafer Fab Experimentation

Technology Co-Optimization Environment

반도체 공정 및 소자 시뮬레이션

TCAD 소프트웨어 솔루션은 R&D의 일환으로서, 새로운 반도체 공정 및 소자를 개발하기 위한 핵심 요소입니다.

1

Implantation

Diffusion

Oxidation

Etch, Deposition, Epitaxy

Photolithography

Stress

2
  • 2D and 3D Device Re-Meshing
  • 2D and 3D Solid Modeling
3

Drift-Diffusion Based Device Physics

DC, AC, and Transient Analysis

Mixed Mode Simulation (TCAD + SPICE co-simulation)

Optical + Electrical Simulation

4

Atomic-Scale Transport Simulation

5

Device Characterization and SPICE Modeling

6

Field-Based RC Extraction

7

High Performance & High Accuracy Parallel SPICE Simulator

TCAD의 장점

개발 비용 절감

  • 반도체 기술 개발에 소요되는 시간과 제조 주기를 단축합니다.
  • ITRS 로드맵에 따르면, TCAD 시뮬레이션을 통해 개발 주기동안 최대 30%의 비용을 절감할 수 있습니다.

내부 물리 공정을 시각화

  • 시뮬레이션을 통해서 소자의 ‘내부’를 볼 수 있습니다. 실험 측정을 통해 발생한 현상을 알 수 있지만, 그 원인을 알 수는 없습니다. TCAD는 그 원인을 설명할 수 있습니다. 예를 들어 다음과 같습니다:
    • 전력 소자에 대한 역전압의 특성화는 역방향 바이어스가 높을 때 발생하는 현상을 알려 줍니다. 소자는 특정 전압에서 역방향에 의한 손상이 발생합니다.
    • TCAD 시뮬레이션은 역방향 전류-전압 곡선을 재현할 수도 있지만, 소자가 손상되는 원인도 설명할 수 있습니다. TCAD에서 높은 충격으로 이온을 생성하여 소자 “내부를 확인” 하고, 반도체 내부의 어떤 영역이 먼저 영향을 받는지 확인할 수 있습니다.

Design Technology Co-Optimization (DTCO)

  • TCAD는 레이아웃, 공정, 소자, SPICE, RC 추출 등 다양한 영역에서 설계를 개선하는 DTCO 플로우의 일부입니다.
  • DTCO 통합 환경에서, TCAD에서 SPICE에 이르는 전체 플로우는 회로 설계 최적화를 위해 명확하고 실행가능한 결과를 제시합니다.

가상 실험

  • 인과 관계 실험: 소자 설계 (레이아웃), 기술 (반도체 공정 단계) 또는 소자 동작 조건 (바이어스 등)을 변경하여 소자 성능을 이해하고 개선합니다.
  • TCAD로 이론에 대해 실험: 모델 설정 및 계수를 통해 소자의 다양한 물리학적 영향을 제어합니다. 시뮬레이션에 적용한 이론이 측정 결과와 일치할 경우, 근본적인 원인을 찾아 소자의 동작을 물리적으로 이해할 수 있습니다.

소자의 특징을 명확하게 전달

  • 반도체 소자의 설계와 반도체 공정은 복잡한 작업입니다. 엔지니어는 다양한 기술 전문 지식을 갖춘 동료들에게 문제와 가능성을 설명하고 이를 해결하기 위해 협력해야 합니다.
  • TCAD를 활용하여 소자 및 공정의 변경 사항을 명확하게 전달: 제조 주기를 최소화하는 동시에 성능의 개선 사항을 명확하게 전달할 수 있습니다.

실바코의 TCAD 솔루션은 지난 수십년간 반도체 업계의 수많은 고객으로부터 그 명성을 인정받았습니다!

TCAD 자료


2021 TCAD Baseline Release

An Introduction to Meshing in Victory Process



동영상

뉴스

실바코, CEO 사임 발표

블로그

Accelerating Design with the Victory TCAD Suite

TCAD Simulations of RF-SOI Switches with Trap-Rich Substrate

고객의 평가

Coby Hanoch
 Silvaco provides state-of-the-art device models and TCAD tools that are widely used by semiconductor companies. We are excited to establish this joint development program with Silvaco so customers will have early access to our ReRAM technology on the most powerful simulation tools in the industry and can fast-track the release of their next-generation products. This is another key step by Weebit Nano to accelerate the incorporation of ReRAM technology by a larger number of OEM customers. 
Takashi Shinohe
 We are developing gallium oxide devices with a completely new proprietary manufacturing method. Utilizing a device simulator will become important in order to efficiently develop such new devices. For the decision to use Silvaco’s device simulator, the deciding factors were Silvaco’s extensive track record with wide band gap semiconductors, and Silvaco’s depth of knowledge of power devices. We expect to see even more progress in our development of GaO™ power devices as we move toward practical applications.