VarMan：工艺偏差设计和良率分析

先进技术节点的工艺偏差已成为IC设计师面临的关键挑战，除了传统的蒙特卡罗分析之外，还需要新一代工具为模拟、射频、标准单元、IO和存储体设计人员提供高效可靠的解决方案，帮助设计师准确地处理统计工艺偏差，提前做出正确的设计决策。设计师不需要具备专业的统计学知识，就可以使用VarMan来理解和优化工艺变化对设计的影响。

传统的蒙特卡罗仿真对于纳米工艺偏差分析来说速度太慢，尤其是在设计项目很紧急的情况下。VarMan拥有突破性的技术，与传统的蒙特卡罗仿真相比，它提供高达30倍的仿真性能，同时保持相同的精度水平。它的高西格玛分析能力提供了非常快速和准确的良率预估，具有快速识别采样失败和设计缺陷的能力。我们的全芯片存储器良率分析使用VarMan创新的快速蒙特卡罗和稳健的高西格玛内核，对整个存储器进行快速故障检测和良率预估。