Victory Process 2D & 3D Layout-Driven Simulator
TCAD 공정 시뮬레이션은 기존 반도체 공정의 유지보수 및 신기술 개발에 매우 중요합니다. 가상의 제조 공정을 통해서 현실의 반도체 공정을 구현할 수 있습니다. 공정의 변화를 명확하게 반영할 수 있습니다; 즉, 소자 성능을 극대화하고 제조 수율을 높이는 동시에 엔지니어링 주기와 시간을 최소화합니다.
장점
- 기존 공정을 최적화하여, 소자 크기의 변경에 따라 특성을 예측
- 새로운 기술 과제에 대한 이해 증진
- 시뮬레이션으로 실험을 대체하여, 마스크 및 프로토타입 비용 절감
- 팹리스 기업을 위해 가상 공정에 기초한 PDK를 만들어서 출시 시간을 단축
일반적인 적용
- 최신 CMOS: FinFET, FDSOI, Bulk CMOS
- 디스플레이 기술: TFT, LED, OLED
- 전력 및 RF 기술: Silicon BiCMOS & BCD, SiC, GaN
- 광학 기술: CIS, 태양 전지, 레이저, 도파관, 변조기
IGBT Switching Simulation Based on the Double-Pulse Method
2024 TCAD Baseline Release
How Can I Re-Use Individual Monte-Carlo 3D Implant Profiles?
Comparison of Models for Fluorine Effect on Dopant Diffusion in CMOS Processes