半导体制造的等离子体腔室模拟
工艺工程师、等离子体腔室设计人员及等离子体设备用户正面临共同挑战：如何在更大面积上实现更均匀、更聚焦的刻蚀等离子体分布以及更优的功率特性，以优化腔室几何构型设计。鉴于腔室制造成本高昂，更换工作气体或化学配方的代价同样不菲，实体硬件原型验证方法已难以持续。为深入解析此类问题，必须借助动理学（粒子速度分布捕获）仿真方法，因为唯有该方法能够准确描述粒子分布的非热平衡特性——例如，电子能量在电离和激发等过程中存在明显损耗，而在等离子体边缘区域，电子与离子分布因受到鞘层及流动影响，均呈现高度非热平衡状态。
本次网络研讨会将介绍Silvaco推出的等离子体仿真工具VSim。该工具可使工程师在不改动物理系统或实验装置的前提下，灵活探索参数空间、测试新型几何腔室构型，并研究等离子体设备的新工艺路径。VSim采用Particle-In-Cell（PIC）算法，能够完整捕获粒子分布的动理学行为。此外，VSim不仅能够以直方图形式直接输出粒子分布，还可将其约化为von Mises-Fisher分布形式，并可导入特征尺度仿真器Victory Process，用于预测半导体器件的最终制造形貌。
您将了解到
- 如何对等离子体（尤其是刻蚀腔室）进行仿真，并提取关键物理参数，如离子能量与角度分布函数
- 不同波形对刻蚀离子分布函数的影响机制
- 如何构建从几何构型设置到器件工艺建模的完整工作流
主讲人
John Cary
Silvaco 高级总监兼首席专家
John Cary现任Silvaco高级总监兼首席专家，专注于等离子体仿真与光子学仿真，并致力于等离子体与光子学建模领域计算应用及工作流的设计与优化。他领导的Silvaco TCAD/HPC团队，专注于等离子体与电磁学（含光子学）的大规模并行计算，以及基于GPU的计算（含云端部署）。其研究方向涵盖光子学、等离子体物理及算法开发。John Cary拥有加州大学伯克利分校等离子体物理学博士学位，是美国物理学会（APS）会士，并曾任APS等离子体物理分会主席。他创立的Tech-X公司于2025年被Silvaco收购。
建议参会人员:
工艺工程师、等离子体腔室设计人员、器件制造人员及工程管理人员。
日期: 2026年8月6日
形式: 线上
时间: 10:00 Santa Clara
时间: 11:00 Paris
时间: 10:00 Beijing
语言: 英语