Learn How to Perform Device Meshing with Silvaco’s Victory Mesh TCAD Solution

2022/1/28 | 3:00 am – 3:35 am (JST) 本ウェビナーでは、Victory MeshのConformalメッシュ(半構造格子直交座標に基づくサンプリング)およびDelaunayメッシュ(非構造格子サンプリング)とそのリファイメント機能の概要について説明します。

iDEAL Semiconductor、次世代高効率パワー・デバイスの開発にシルバコの Victory TCADソリューションを採用

カリフォルニア州サンタクララ発 – 2021年9月2日 - Silvaco Group, Inc.(以下シルバコ)は、本日iDEAL Semiconductorが、次世代の高効率パワー・デバイスの研究開発を加速するために、シルバコのVictory TCAD ソリューションを採用したことを発表しました。

100X Faster Nano Device Atomistic TCAD Simulation with Victory Atomistic

2021年8月6日 2:00-2:30 JST 本ウェビナーでは、シルバコTCADツールの一つであるVictory Atomistic(VA)のシミュレーション機能を紹介します。

Simulation of Silicon and Perovskite Based Tandem Solar Cells Using TCAD

3端子の高効率タンデム・モデルにおけるIBCモデルとPSCモデルの統合について説明するとともに、2端子および3端子のソリューションについて回路設計の観点から検討し、そのメリットとデメリットについて議論します。最後に、単接合バンドギャップ太陽電池の効率限界を超えるタンデム太陽電池の設計を紹介します。

TCAD

TCADはDTCOフローの一部として、レイアウト、プロセス、デバイス、SPICE、RC抽出など、複数の領域にわたる設計を改善します。 統合化されたDTCOフローの中で、TCADからSPICEへの完全なフローは、回路設計を最適化するための明確で実用的な結果をもたらします。

Achieve Your Display Design Performance Edge Through Precision Parasitic Extraction

ますます厳しくなる設計ルールや非平坦な表面形状は、従来のルールベースによる抽出ツールを使用する設計者のイノベーションに対する選択肢を制限してしまいます。シルバコのHipex-FSは、現実的な3Dプロセス・シミュレーションを駆使することで、設計者がパフォーマンスとイノベーションの限界を見つけるのに役立ちます。

GaN-Based LEDs – Combining Process and Device TCAD to Optimize Substrate Patterning and Maximize Light Extraction Efficiency

このウェビナーでは、プロセスとデバイスのTCADシミュレーションを組み合わせてGaNベースのLED設計をサポートするワーク・フローをご紹介します。

How to Modify Material and Modeling Properties with Silvaco Victory TCAD Solution

本ウェビナーでは、シミュレーションのモデルを設定する方法、材料とモデリングのプロパティを変更する方法、およびさまざまなプロセスに対してシミュレーションをキャリブレートする方法をご紹介します。