2025/2/27,28 本ウェビナーでは、これらのメカニズムがVictory Processでどのようにシミュレーションされているのか、また、これらのモデルを用いたプロセス・シミュレーションの設定方法についてご紹介します。 その後、モデルをプレーナーCMOSの例で活用し、結果がどのように改善されるかを確認します。

2024/12/12,13 本ウェビナーでは、TCADシミュレーションを実験データに対してベンチマークするための、TCADパラメータのキャリブレーションを強化するML-TCAD複合戦略について紹介します。こちらは、Victory統合パッケージの2つの最新ツール間のシームレスなフローによって実現可能です(Victory Design of Experiment (DoE)とVictory Analytics)。

2024/7/25 本ウェビナーで説明する新しいアプローチは、現在すでに実生産で使用されており、人工知能（AI）と機械学習（ML）を活用して製造工程の正確なモデルを生成します。このアプローチでは、実際の物理学と化学を考慮した製造工程のTCADデジタル・モデル（デジタル・ツイン）を使用します。