构建更优、更快的先进逻辑器件：从工艺到器件仿真、校准及 FTCO™ 工作流
随着摩尔定律持续推动半导体技术向前发展，晶体管架构已迈入三维时代。FinFET 仍是先进逻辑节点的主流器件，而随着尺寸微缩的持续推进，GAA应运而生，成为延续静电控制与性能提升的重要演进方向。本次网络研讨会将展示一个实用的工作流，用于先进节点 FinFET 器件的建模与仿真，并通过GAA的辅助演示，说明随着架构演进，相同的方法论如何得以扩展应用。
我们将重点探讨在采用 Silvaco Victory TCAD 的经过校准的工艺到器件仿真流程中，实现精确器件表征所需的关键物理效应和建模考量因素——例如量子限域效应、能带结构修正、应变工程和迁移率行为等。借助 Victory Device 的强大功能，我们将展示如何基于参考数据对仿真进行校准与验证。最后，我们将演示 Victory Analytics 和FTCO™如何赋能多维度的工艺/设计空间探索，从而加速开发周期，并助力优化面向下一代高性能、低功耗逻辑器件的设计窗口。
您将了解到
- FinFET 与nanosheet/GAA：先进节点的核心变化
- 面向先进逻辑仿真的 Victory TCAD 实用工作流
- 校准与验证如何在 TCAD 流程中发挥作用
- FTCO™ 如何赋能多参数探索与优化
- 利用实验设计结合分析工具，快速发现敏感度与权衡点
- FTCO 如何构建交互式数字孪生
主讲人
周真真
TCAD 高级现场应用工程师, Silvaco
周真真是一位拥有九年半导体行业专业经验的 TCAD 现场应用工程师。加入 Silvaco 之前，他曾就职于数家领先的半导体晶圆代工厂，专注于工艺开发与器件优化。目前，他负责为 TCAD 客户提供技术支持与应用解决方案。
建议参会人员:
工艺工程师、仿真工程师、晶圆厂工程师、产品经理和工程管理人员。
日期: 2026年3月26日
形式: 线上
时间: 10:00 Santa Clara
时间: 11:00 Paris
时间: 10:00 Beijing
语言: 英语