September 26, 2024
In this context, we show how the Victory Atomistic tool can answer this essential question thanks to quantum mechanics, offering valuable support for the prototyping effort of a 2D transistor in a professional TCAD environment.
August 7, 2024
2024/8/29,30
本ウェビナーでは、Micron Technology社が先端メモリ技術の開発と製造にシルバコのFab Technology Co-Optimization（FTCO™）プラットフォームをどのように活用しているかを紹介します。
2024/7/25
本ウェビナーで説明する新しいアプローチは、現在すでに実生産で使用されており、人工知能（AI）と機械学習（ML）を活用して製造工程の正確なモデルを生成します。このアプローチでは、実際の物理学と化学を考慮した製造工程のTCADデジタル・モデル（デジタル・ツイン）を使用します。
June 20, 2024
It is often the case that a design of experiments (DOE) is required to optimize the performance of a particular device. Sometimes this simply means tweaking the implant dose for threshold voltage or other minor adjustments, but in other cases it can mean tweaking such things as high energy deep well implants.
May 30, 2024
Recently a new diffusion model was introduced to Victory Process: the CMOS model. This model aims at taking on the challenges brought by the specificities of CMOS device processing such as steep temperature ramps, short annealings or shallow implantations.