全芯片曲线图形化：从设计阶段探索到工艺波动分析
摘要
随着先进节点逐步将曲线形掩模图形推向量产，这类图形对原本为矩形几何量身打造的修正、验证与掩模规则检查（MRC）流程构成了严峻挑战。本次网络研讨会将展示 Silvaco 量产级 PPC 套件如何以一体化互联流程的形式协同运作，而非一组彼此割裂的点工具。我们将从上游的 PPC 交互式优化器出发，设计师可在版图创建，调试热点及针对可印刷性测试设计规则变体阶段即运行光刻轮廓仿真，从而将图形化感知决策大幅提前至流片之前。随后，我们将深入全芯片曲线修正环节：主特征与 SRAF 生成，在优化过程中即同步执行 MRC，而非事后修补；修正后验证与曲线掩模规则检查直接在曲线输出上运行，无需依赖矩形近似。最后，我们将展示 PPC 如何接入 Silvaco FTCO™（Fab Technology Co-Optimization）智能解决方案平台，将单次修正运行转化为结构化、可复用的工程数据，为系统化的工艺波动研究提供有力支撑。通过实例演示，我们将清晰呈现每个阶段如何在设计意图与可制造掩模数据之间显著减少迭代次数。
您将了解到
- 如何原生地在曲线轮廓上完成全芯片曲线修正、验证与 MRC
- 在版图创建阶段 PPC 与 Virtuoso 的集成如何支持交互式光刻探索
- Victory DoE 如何将 PPC 接入 FTCO 工作流程，以支持系统化的工艺波动研究
主讲人
Alan Zhu
Silvaco 工程总监
Alan Zhu 现任 Silvaco 工程总监，负责领导工艺邻近效应补偿（PPC）团队，涵盖 OPC、RET、验证与建模开发。他之前曾作为软件工程总监领导Cadence 的 PPC产品线，2025年该产品线被 Silvaco 收购后他加入Silvaco。他在计算光刻与 EDA 软件开发领域拥有30年深厚经验。
建议参会人员:
OPC 与掩模工程师、计算光刻工程师、版图与设计规则工程师、工艺整合工程师、TCAD 工程师及工程管理人员。
日期: 2026年11月5日
形式: 线上
时间: 10:00 Santa Clara (Live Q&A)
时间: 11:00 Paris
时间: 10:00 Beijing
语言: 英语
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