AI驱动的代理模型：从工艺几何到器件I-V电学特性曲线
摘要
现代半导体研发需要在确保高精度物理仿真的同时，对庞大的设计空间进行快速探索。本次网络研讨会将展示如何利用融合了多物理场仿真、数据分析与机器学习技术的FTCO工作流，创建交互式代理模型。FTCO使工程师能够将仿真数据转化为紧凑的代理模型，并可实时用于设计空间探索、参数优化及假设分析。
研讨会将首先介绍实验设计项目的准备流程，以及如何从多物理场TCAD仿真中提取几何与电学响应数据。随后，将展示如何基于工艺仿真结果生成结构代理模型，实现工艺参数变化下几何结构形貌演变的可视化交互。最后，将演示电学代理模型的构建方法，实现完整的I-V特性曲线与器件指标的实时建模与再现。
与会者将了解机器学习辅助的模型生成、基于SHAP的特征选择、预测分析器、期望函数优化以及可共享的XML模型卡，这些方法如何在保留多物理场仿真所蕴含的物理机制的同时，显著缩短设计周期。最终呈现的是一套切实可行的工作流，能够加速工艺开发、器件优化及面向制造的技术探索。
您将了解到
- 如何从多物理场仿真生成代理模型
- 如何基于工艺仿真数据构建几何结构形貌代理模型
- 如何创建能够还原完整I-V特性的电学代理模型
- 如何执行特征选择、代理模型生成与优化
- 如何在不同团队与计算环境间部署与共享
主讲人
Christian Caillat 博士
Silvaco CAE 高级技术专家
Christian Caillat 博士现驻美国爱达荷州博伊西市。在2023年6月加入Silvaco之前，他在美光科技工作了13年，其间参与了多个重要项目，包括与IMEC合作的新兴存储器项目、领导3D NAND存储单元团队，以及先进存储器建模等工作。Caillat 博士拥有法国格勒诺布尔国立理工学院电子工程学士学位及微电子学博士学位。
建议参会人员:
工艺工程师、设计工程师、应用工程师、产品工程师、晶圆厂工程师及工程管理人员。
日期: 2026年9月3日
形式: 线上
时间: 10:00 Santa Clara
时间: 11:00 Paris
时间: 10:00 Beijing
语言: 英语
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网络研讨会结束后将立即提供视频回放，并通过邮件发送给所有注册参会者。