Victory Process

Know how your circuit behaves across process variation before silicon tells you, with Monte Carlo-accurate results up to 30X faster. 

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4 years ago

Learn How to Efficiently Achieve Accurate Experimental Etch Profiles in FinFET and Memory Applications with Victory TCAD Solution

2022年8月12日 | 2:00-2:30 JST 本ウェビナーでは、FinFETとメモリデバイスへの適用を例に、これらの幾何学エッチング・モデルを紹介します。フィンの形状制御や、非理想的なエッチング形状（ボーイング、ツイスト）、セルフ・アライン・プロセス（マルチパターニング）を実現する技術を紹介します。