작성자: Erick Castellon
저자는 아직 경력을 작성하지 않았습니다.
하지만, Erick Castellon 씨는 무려 763 항목에 기여한 것을 자랑스럽게 생각합니다.
엔트리 Erick Castellon
SOI Technology
2월 26, 2020카테고리: TCAD Published Papers /작성자: Erick CastellonTFT Technology
2월 26, 2020카테고리: TCAD Published Papers, TFT Technology /작성자: Erick CastellonCompound Devices
2월 26, 2020카테고리: Compound Devices, TCAD Published Papers /작성자: Erick CastellonCMOS Technology
2월 26, 2020카테고리: CMOS Technology, TCAD Published Papers /작성자: Erick CastellonProcess Simulation
2월 26, 2020카테고리: Process Simulation, TCAD Published Papers /작성자: Erick CastellonMIPI Alliance I3C V1.1 표준의 특징
2월 24, 2020카테고리: SIPware Webinars /작성자: Erick Castellon2020년 2월 28일 | 3:00am-3:30am (한국 시각)
I3C는 핀의 갯수 감소, 성능 향상, 소비전력 감소 및 I2C 인터페이스와의 하위 호환성에 탁월합니다. 2020년 1월에 발표된 I3C V1.1은 인터페이스 속도를 최대 100MHz까지 빠르게 할 수 있으며, 애플리케이션에서 I2C에서 I3C로 전환하는데 도움을 제공합니다.
Victory Atomistic으로 혁신적인 나노소자의 TCAD 구현
2월 6, 2020카테고리: TCAD Webinars /작성자: Erick Castellon2020년 2월 14일 | 3:00am-3:30am (한국 시각)
실바코 TCAD 툴 중 하나인 Victory Atomistic (VA)의 시뮬레이션 성능을 소개합니다. VA는 퍼듀 대학에서 만든 NEMO5 소프트웨어에 기초한 다목적 나노소자 시뮬레이션 툴입니다.
Atomistic Analysis and Next Generation Computing at IEDM 2019
12월 18, 2019카테고리: TCAD Blogs /작성자: Erick CastellonIEDM is THE device conference with more than a thousand participants from major companies and R&D institutes. Many talks were dedicated to new memory devices and circuits, including Ferroelectrics, MRAM, RRAM, driven by the requirements of AI processing. EUV is definitely there for 3nm and beyond. 3D integration was shown for LP-HP logic and RF. Gate-All-Around devices, with nanowires or nanosheets are mature versus FinFET.
TCAD Recommended Textbooks
12월 14, 2019카테고리: TCAD Textbooks /작성자: Erick CastellonCMOS: Mixed-Signal Circuit Design, Second Edition R. Jacob Baker. Published Wiley-IEEE Press, 2nd Edition. Published 2009, pp. 330 ISBN 978-0-470-29026-2 Understanding Modern Transistors and Diodes David L. Pulfrey, Cambridge University Press, New York, 2010, pp. 336 ISBN 978-0-521-51460-6 Understanding Signal Integrity Stephen C. Thierauf, Published Artech House, December 2010, pp. 250 ISBN-13: 978-1-59693-981-3
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