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File name:

1-004_VarMan-Solution_ja.pdf

Publication Date:

Jul 25, 2018

Size:

0.99 MB

Description:

プロセス・ノードが進むにつれ、(プロセスばらつきに起因する)パラメータのばらつきや(レイアウト情報から露 光時の)光学的ひずみが増加しています。これらの現象は、ICがより複雑になることに伴うもので、歩留まりと信頼性に影響を与えます。ナノメータ・スケール・プロセスでは、これらの影響を和らげる手法を確立する必要があります。


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